消息稱SK海力士考慮引進ASML High NA EUV設備
《科創板日報》15日訊,SK海力士技術長Seon-yong Cha表示,正考慮引進ASML造價4億美元的High NA EUV光刻設備,生產下一代存儲芯片。 (ChosunBiz)
相關資訊
- 不讓臺積專美 SK海力士也考慮採用ASML的High NA EUV設備
- ▣ 消息稱三星將於2025年初從ASML引進High-NA EUV光刻機
- ▣ 消息稱臺積電首臺 ASML High NA EUV 光刻系統本月進機
- 消息稱英特爾考慮引入 DSA 技術輔助 High NA EUV 光刻以提升質量
- ▣ 臺積電首臺ASML High NA EUV本月將進機?...
- ▣ 臺積電或以折扣價於9月底前引進High-NA EUV設備
- ▣ 阿斯麥展出新型“High NA EUV”設備
- ▣ 三星電子NRD-K半導體研發綜合體進機 將導入ASML High NA EUV光刻設備
- 臺積電嫌high-NA EUV貴 ASML主管妙回
- ▣ imec攜手ASML 成立 High-NA EUV微影實驗室
- 臺積電:A16節點不一定需要ASML的High NA EUV
- ▣ AI帶動高階晶片需求 ASML High NA EUV 助力晶片製造商
- 英特爾已完成第二臺High-NA EUV的組裝,ASML稱新款光刻機有更好的安裝設計
- ▣ 消息稱SK海力士預計10月完成HBM4設計定案
- ▣ 《國際產業》ASML出貨全球首臺High-NA EUV 英特爾搶頭香
- 魏哲家密訪ASML!外媒猜臺積改變心意 擬買High-NA EUV
- AI 高階晶片熱 ASML High NA EUV 拚降每片晶圓生產用電
- 研調:ASML 去年出貨超車應材 今年 High-NA EUV 出貨續旺
- 進入High-NA EUV微影時代
- ASML瞄準下一代Hyper-NA EUV技術
- ▣ High-NA EUV光刻機價值3.8億美元,ASML已收到10至20臺訂單
- ▣ imec展示最新High-NA EUV技術
- ▣ 消息稱HBM4標準放寬 三星、SK海力士推遲引入混合鍵合技術
- ▣ 《國際產業》5年狠砸43億美元!SK海力士與ASML簽定EUV採購合約
- ▣ 消息稱Temu考慮增設平臺模式
- ▣ 消息稱英偉達與SK海力士協調2025年HBM供應
- ▣ SK海力士據悉考慮新建一家DRAM工廠
- ▣ 消息稱SK海力士5層堆疊3D DRAM製造良率已達56.1%
- ▣ SK海力士砸千億 購買ASML光刻機