魏哲家密訪ASML！外媒猜臺積改變心意 擬買High-NA EUV

圖爲英特爾晶圓廠內的High NA EUV。路透

臺積電先前一再表示，半導體設備製造商艾司摩爾（ASML）的高數值孔徑極紫外光機臺（High-NA EUV），太過昂貴，2026年前使用沒有太大的經濟效益，但近來臺積總裁魏哲家密訪ASML總部，讓外界不禁猜測，臺積是否改變心意。

綜合科技媒體wccftech和韓媒BusinessKorea報導，消息人士指出，魏哲家缺席23日登場的臺積電2024年技術論壇臺灣場，於26日造訪了ASML荷蘭總部，以及工業雷射公司創浦（TRUMPF）的德國總部。

金融分析師奈斯泰德（Dan Nystedt） 28日在X平臺發文寫道，臺積似乎加入追逐下一世代EUV設備之戰，即High-NA EUV機臺，理由是魏哲家訪問ASML與雷射供應商創浦，而非參與在臺灣舉行的技術論壇。據傳魏哲家的到訪，顯示臺積想買High-NA EUV，此種設備對2奈米以下製程極爲關鍵。ASML去年12月已出貨首臺High-NA EUV給英特爾。

相關人士分析，臺積管理層似乎決定拜訪ASML，以確保在全球半導體的主導地位。臺積原本打算在2026年下半量產1.6奈米制程後，再導入High-NA EUV。

臺積的競爭對手英特爾和三星電子，都已有所行動。英特爾想借着High-NA EUV，達到難以超越的領先優勢。最先出貨的幾臺High-NA EUV，都送往英特爾的晶圓代工部門。英特爾想先在1.8奈米試用此種設備，之後正式導入於1.4奈米制程。

三星集團會長李在鎔則在4月親訪ASML關鍵夥伴蔡司（Carl Zeiss）的德國總部，拜會ASML執行長傅凱與蔡司執行長蘭普雷希特，以強化三方的半導體聯盟。EUV不只用於2奈米晶圓代工，也用於生產最先進的DRAM，三星爲此重押High-NA EUV技術。