陸半導體先進製程困境有解藥？網憂心ASML賣DUV圖謀

陸科技部落客憂心ASML現在的善意可能對大陸半導體業是長遠的傷害。(達志影像shutterstock)

據大陸媒體報導，半導體生產設備大廠ASML在上海國際進口博覽會展出號稱能用於7奈米制程的DUV(深紫外光)光刻機，不像目前最先進EUV(極紫外光)光刻機受美國禁令限制，但陸業界人士不但對DUV能否用在7奈米制程持保留態度，網路也有科技部落客指出，此舉恐在扼殺大陸光刻機產業競爭力。

業界人士指出，DUV雖然號稱可以到達的製程極限是7奈米，但實務上仍然多用於成熟製程，目前所知美國英特爾(Intel)透過特殊技術輔助推進至10奈米左右已是極限，這是因爲DUV的紫外光波長193奈米，透過液體浸潤多重曝光後雖能縮小線距，但要做到與EUV的13.5奈米波長等效，成本和良率都是難以想像。

實證上似乎也能證實DUV要做到7奈米困難，中芯國際2017年就表態要研發7奈米制程，花了約2年半時間、亦即比摩爾定律推進1代時間稍長，到今年10月才讓所謂N+1先進製程開始流片，而且在外媒揣測N+1相當於7奈米及大陸亟待半導體業突破基調下，罕見主動澄清N+1只是代號，性能只達國際上7奈米晶片20%。

科技部落客「柏銘007」則分析，ASML願出售DUV確實是善意，但恐怕對本土科技業並非好事，他指出由於中國技術較落後，國產光刻機開發重點都是在DUV而非EUV，ASML的DUV若大肆進軍中國，陸產DUV完全不是對手；除了品質外，ASML今年第3度財務報告顯示有66%利潤來自EUV銷售，該公司也完全可以靠EUV的豐厚利潤，在向中國銷售DUV時，打價格戰搶市。因此ASML的善意，對大陸要建立完整半導體產業鏈，恐是短多長空。