《產業》研調：ASML柏林廠火災 恐影響先進製程轉進時程

ASML位於德國柏林的工廠一處於1月3日發生火警，該企業主要爲晶圓代工及記憶體生產所需的關鍵設備機臺（包含EUV與DUV）之最大供應商，據TrendForce初步瞭解，佔地32000平方米的柏林廠區中，約200平方米廠區受火災影響。該廠區主要製造光刻機中所需的光學相關零組件，例如晶圓臺、光罩吸盤和反射鏡，其中用以固定光罩的光罩吸盤處於緊缺狀態。目前該廠零組件以供應EUV機臺較多，且以晶圓代工的需求佔多數。若屆時因火災而造成零組件交期有所延後，不排除ASML將優先分配主要的產出支援晶圓代工訂單的可能性。

晶圓代工方面，EUV主要使用於7奈米以下的先進製程製造。目前全球僅臺積電(2330)與三星（Samsung）使用該設備進行製造，包括臺積電7奈米、5奈米、3奈米制程，Samsung於韓國華城建置的EUV Line（7奈米、5奈米及4奈米）以及3奈米GAA製程等。不過，受到全球晶圓代工產能緊缺、各廠積極擴廠等因素影響，半導體設備交期也越拉越長。

DRAM方面，目前三星及SK海力士（SK hynix）已使用在1Z奈米及1alpha奈米制程上，美系廠商美光（Micron）預計於2024年導入EUV於1gamma奈米制程。

根據TrendForce目前掌握，ASML EUV設備的交期落在約12~18個月，也因爲設備交期較長，ASML有機會在設備組裝時間等待該工廠所損失的相關零組件重新制造完成。

整體而言，ASML德國柏林工廠火災對晶圓代工及記憶體而言，將可能對EUV光刻機設備製造產生較大影響。根據TrendForce的消息掌握，ASML所需的零組件亦不排除透過其他廠區取得，加上目前EUV設備交期相當長，因此，實際對EUV供應的影響仍有待觀察。