ASML新EUV 英特爾搶頭香

全球半導體微影設備龍頭荷商艾司摩爾（ASML）。 路透

艾司摩爾（ASML）22日在社羣平臺X貼出圖片，表示開始將第一套最新半導體先進製程設備「高數值孔徑極紫外光」（High-NA EUV）系統的主要部分出貨給英特爾。彭博資訊報導，這套最尖端晶片製造設備，目的地是英特爾位於美國奧勒岡州的工廠。

據瞭解，ASML這套先進設備的主要機件，已經運抵英特爾奧勒岡州D1X廠。彭博分析指出，High-NA EUV製程技術對ASML與英特爾都非常重要。英特爾執行長基辛格已承諾，要最先拿到這款機器，展現英特爾重新投入製造技術第一線的雄心。

這款高數值孔徑EUV體積龐大，組裝後比一輛卡車還大，至於價格方面，根據ODDO BHF分析師團隊上個月在報告中估計，ASML這套最先進製程設備，一套的價格大約2.5億歐元（2.75億美元）。

外界關注晶圓代工龍頭臺積電（2330）取得先進製程設備的進度，臺積電先前在2022年技術論壇上已預告，2024年將取得high-NA EUV設備，昨日也維持原先說法。業界認爲，大廠取得相關下世代EUV設備的進度皆差不多，重點在後續實際導入量產的成效。

先前臺積電2022年技術論壇上，臺積電業務開發及海外營運辦公室資深副總經理張曉強指出，臺積電2024年會引進，還不準備運用新的高數值孔徑EUV工具來生產，主要目的是跟夥伴進行研究。臺積電研究發展資深副總經理米玉傑也在2022年臺積電技術論壇表示，2024年將取得艾司摩爾最先進微影工具的新一代版本。

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