艾司摩爾CEO：中國獨立開發頂尖光刻機至少需要10年

荷蘭光刻機巨頭艾司摩爾對中國出口設備仍未獲得政府許可。該公司CEO彼得．溫尼克表示，中國若要獨立開發製造頂極光刻機的技術，至少需要10以上的時間。圖爲ASML的EUV光刻機。（圖／路透）

中國最近幾年積極發展晶片產業，但在人才與技術上遭遇許多障礙。全球半導體微影設備製造大廠、荷蘭光刻機巨頭艾司摩爾（ASML）近日表示，對中國出口設備仍未獲得荷蘭政府許可。該公司CEO彼得．溫尼克（Peter Wennink）說，中國如果要嘗試獨立開發頂尖的光刻機技術，至少需要10年才能做得到。

據《路透》報導，彼得．溫尼克日前受訪時表示，公司迄今仍未獲得許可，不能將任何最先進光刻系統運往中國。中國當然可以嘗試開發製造大型精密光刻機的技術，但他不認爲中國可以獨立複製頂級光刻技術。他還強調，ASML所依賴的是「不懈的創新」，而且組件只能從中國以外的供應商獲得。

報導引述分析師的話稱，由於美國施壓，荷蘭政府因此拒絕授予ASML 出口先進光刻機系統的許可證。而沒有 ASML的最先進光刻機，中國恐怕難以生產高階晶片，如果要自行開發相關技術與設備，估計中國至少需要10年才能自主製造頂尖的EUV光刻機。

ASML是目前全球最頂尖的光刻系統製造商，市佔率超過60%以上，據該公司2021年第2季度財報顯示，艾司摩爾前3大設備出貨地分別是南韓（39%）、臺灣（36%）、中國（17%），當季該公司一共出貨72套光刻系統（包括9臺EUV）。