一線生機！ASML：38nm DUV光刻機出口未受限 仍可支持7nm

ASML官網提供的資訊指出，DUV光刻機TWINSCAN NXT:1980Di出口未受限，分辨度大於等於38nm，經重複曝光可支持到7nm左右。（圖／ASML）

荷蘭政府宣佈包括深紫外光刻機等數種先進半導體設備出口的新規定，將於9月1日生效。而所謂限制，指的是出口前必須獲得許可證。不過據生產頂尖光刻機的艾斯摩爾（ASML）公司官網表示，支持38nm製程的浸潤式DUV光刻機（1980Di）不在限制範圍內，這型光刻機可支持到7nm左右，但步驟更爲複雜、成本更高。一般最多用到14nm製程，14nm以下良率會有些損失。

據《快科技》報導， ASML在其官網發表聲明稱，該公司未來出口其先進的浸潤式DUV光刻系統（即TWINSCAN NXT:2000i及後續浸潤式系統）時，將需要向荷蘭政府申請出口許可證。

ASML強調，該公司的EUV系統的銷售此前已經受到限制。

報導引述ASML官網提供的資訊指出，該公司目前在售的主流浸潤式DUV光刻機產品共有3款，分別是：TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。

ASML在今年3月曾表示，預計2000i和2050i這2款產品會受到荷蘭政府的出口限制。再對比今日的迴應來看，TWINSCAN NXT:1980Di這款浸潤式DUV光刻機並不在限制範圍內。

報導說，ASML官網上關於這一臺TWINSCAN NXT:1980Di的介紹中指出，其分辨率小於等於38nm（可以支持到7nm左右），而這是指一次曝光的解析度，事實上光刻機是可以進行多次曝光。

換言之，理論上NXT:1980Di依然可以達到7nm製程，只是步驟更爲複雜，成本更高，良率可能也會有損失。報導說，目前晶圓廠用這一臺光刻機，大多是生產14nm及以上工藝的晶片，很少去生產14nm以下的工藝，因爲良率低，成本高，沒什麼競爭力。