日對中半導體設備出口 8月增逾六成

圖／新華社

外媒報導，今年8月份日本對中國的半導體設備出口額較去年同期飆升61.6％，達到1,799億日圓（約合12.9億美元）。儘管美國政府聯合日本、荷蘭，對中國實施先進半導體設備的出口管制，但日本對中國半導體設備出口的大幅增長，凸顯中國對於成熟製程半導體設備的旺盛需求。

韓媒Business Korea於20日引述日本財務省最新發表的報告稱，8月份日本出口到中國的設備總重量爲6,742噸，比7月份增長41％。機械和設備佔日本對中國出口總額的23.2％，其中半導體設備佔比11.9％。這可一窺日本在全球半導體供應鏈中的關鍵作用，尤其在提供半導體制造必要的技術和材料。

除了日本以外，中國也從韓國擴大進口半導體產品。數據顯示，今年7月，在半導體出口年增近40％的帶動下，韓國對中國出口年增14.9％達114億美元，創下近21個月以來新高，中國再次成爲韓國的最大出口國。

同時，領先全球的曝光機供應商荷蘭ASML對中國的出口額也有所增長。今年第二季，ASML對中國的出口額比上一季增長21％，達到23億歐元。ASML是全球最大的曝光機設備供應商，同時也是唯一的EUV曝光機供應商，該設備對於生產7nm以下製程的半導體至關重要。值得注意的是，中國工信部近日資料顯示，中國國產的65奈米解析度、8奈米套刻精度的曝光機已經就緒。近期上海微電子（SMEE）申請的一項「極紫外（EUV）輻射發生器和光刻設備」的專利也被曝光，這些資訊反應出在美國製裁下，中國推動先進設備國產化的努力。