林本堅:美國難阻中國芯片發展
臺積電前副總裁林本堅表示,美國不可能完全阻止中國改進芯片技術,試圖限制中國的進步,這是徒勞的。
林本堅本週接受採訪時表示,美國應該專注於保持其芯片設計領先地位,而不是對抗中國的整體國家戰略。
林本堅在業界備受推崇,因爲他是第一個提出浸沒式微影曝光技術的人,這是ASML核心產品所依賴的技術。林本堅說,除了努力達到5nm里程碑之外,中國可能還會嘗試新材料或先進芯片封裝,以製造更強大的半導體。
林本堅表示,中國可以使用現有的舊機器製造更復雜的芯片。
林本堅補充說:美國真正應該做的是專注於保持其芯片設計領先地位,而不是試圖限制中國的進步,這是徒勞的,因爲中國正在採取舉國戰略來發展芯片產業。
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