荷蘭擴大管制光刻機出口　陸商務部：嚴重損害相關國家企業正當權益

▲荷蘭半導體制造商艾司摩爾（ASML）。（圖／路透）

記者魏有德／綜合報導

荷蘭政府6日宣佈，將擴大對ASML（阿斯麥，下同）晶片生產設備，包括光刻機的出口管制。對此，大陸商務部表示，荷方在2023年半導體出口管制措施的基礎上，進一步擴大對光刻機的管制範圍，中方對此表示不滿。

▲荷蘭擴大對ASML設備出口的限制。（圖／CFP）

大陸商務部發言人表示，近年來，美國爲維護自身全球霸權，不斷泛化國家安全概念，脅迫個別國家加嚴半導體及設備出口管制措施，嚴重威脅全球半導體產業鏈供應鏈穩定，嚴重損害相關國家和企業正當權益，中方對此堅決反對。

根據荷蘭政府新規規定，ASML需要向荷蘭政府而非美國政府申請出口許可證，才能向大陸出口其舊型號的深紫外浸潤式光刻系統。不過，荷蘭政府已在2023年限制ASML向大陸出口更先進的設備。

在新規規定的範疇下，阿斯麥生產的「TWINSCAN NXT:1970i」和「1980i深紫外浸潤式」光刻機出口大陸將會受到限制，美國政府同樣對相關型號產品提出限制。

該發言人強調，荷方應從維護國際經貿規則及中荷經貿合作大局出發，尊重市場原則和契約精神，避免有關措施阻礙兩國半導體行業正常合作和發展，不濫用出口管制措施，切實維護中荷企業和雙方共同利益，維護全球半導體產業鏈供應鏈穩定。